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中微公司的发展模式则更像泛林集团，以集成电路刻蚀机与泛半导体MOCVD 设备为拳头类产品，技术与产品追求极致，由易至难，先精后全。中微公司是国内半导体干法刻蚀领域CCP设备领军者，ICP设备进展顺利，受益国产替代东风快速爆发。

一、 追赶国际先进水平，打造国产半导体设备精品超市

1.1 全球半导体设备后起之秀，刻蚀设备、MOCVD设备等领域异军突起

中微公司是国内一流、国际知名的半导体微观加工设备公司。公司专注于集成电路、LED关键制造设备，核心产品包括：

1）用于集成电路领域等等离子体刻蚀设备（CCP、ICP）、深硅刻蚀设备（TSV）；

2）用于LED芯片领域的MOCVD设备。

刻蚀设备业务与MOCVD设备业务二者相辅相成，公司以集成电路刻蚀设备起家，向LED领域横向延伸顺理成章，同时公司MOCVD设备已主导氮化镓基LED国内市场，业务条线成熟，能够不断为公司发展半导体设备业务提供资金反哺。

1.2 老骥伏枥志在产业报国，白手起家一路攻坚克难

2004年8月，时年60岁的现任中微公司董事长尹志尧决定带领团队回国创业，在没有带回任何图纸和技术资料几乎赤手空拳的情况下开启半导体设备国产化征程。

在上海市政府及国开行的支持下顺利获得启动资金，迅速步入发展的快车道，很快开发了65nm等离子体刻蚀机，其后逐步将设备做到45nm、32nm、28nm、16nm、7nm及5nm，并在业界首次开发了双反应台介质刻蚀除胶一体机——将反应台介质等离子体刻蚀和光刻胶除胶反应腔整合在一个平台。

2018年台积电5nm生产线确定的全球5家刻蚀设备供应商中，中微公司赫然在列。

2019年公司登陆科创板，并成为科创板首家市值破千亿的硬科技企业。

1.3 公私结合推行特色治理，成长之路受益多方助力

从2021年中报来公司看，中微公司第一大股东上海创投的持股比例为15.67%，第二大股东巽鑫投资的持股比例为15.17%，两者持股比例接近。

其中上海创投隶属上海国有资产监督管理委员会，从创立之初就对其注入5000万作为“种子资金”，之后15年持续9次投入直至其上市。

巽鑫投资则是国家集成电路产业投资基金股份有限公司的全资子公司。由于二者持股比例接近，根据公司目前实际经营管理情况，重要决策均属各方共同参与决策，目前公司无实际控制人。公司董事长尹志尧在业内德高望重，在公司经营层面具有很大话语权。

员工持股平台之一南昌智微为公司第三大股东，上市以来推出多种激励政策，激励力度大、激励范围广，在公司内部推行全员持股。

1.3 公司内部推行全员持股，激励辐射范围广

1.4 行业领袖坐镇，专业人才云集

中微公司创始人尹志尧博士在业内从事多年，德高望重，曾先后就职于英特尔、泛林半导体、应用材料等海外知名半导体公司，积累了深厚的技术理论与丰富的行业经验，中微公司自成立以来吸引了大批专业人才，公司核心技术人员学历背景突出，国际化背景突出。

半导体行业作为高新技术企业，具有资金密集型、技术密集型、人才密集型的特点。

从公司人员构成上来看，截至2020年12月31日，公司生产、销售、研发、技术人员占比分别为18.57%、6.60%、38.70%、17.79%，其中研发人员与技术人员合计占比56.49%。

从员工学历上看，公司本科以上学历员工占比32.8%，本科及以上学历员工占比为78.3%，符合半导体行业特点。

1.5 承揽多项重大科技项目、斩获多项荣誉成就国产半导体设备明星企业

公司高管亲自牵头，承揽多项国家重大科技项目，在高端刻蚀机领域、高端MOCVD设备领域均有所突破，并顺利交付，是国内半导体设备行业当之无愧的先行者与领军者，是国际半导体设备产业界公认的后起之秀。

自成立以来，中微公司凭借其优秀的管理团队、严谨的专利水平、优秀的产品质量斩获多项荣誉，成就国产半导体设备明星企业。

2009年SEMI授予中微公司“最受的本土半导体设备和材料公司奖”，被美国《半导体杂志》评为2009年度最佳产品奖；

2010年、2012年被国家科技重大专项实施管理办法办公室授予优秀团队奖；

2014年公司等离子体刻蚀设备荣获第十六届中国国际工业博览会金奖；

2018年公司超大反应腔MOCVD设备Prismo A7荣获第二十届中国国际工业博览会银奖；

2018年被美国VLSI Research全球半导体设备公司“客户满意度”综合评分全球第三等等，彰显公司影响力逐年增强。

图表：斩获多项荣誉成就国产半导体设备明星企业

1.6 打破国外垄断，打赢国际维权三大战役彰显自主创新硬实力

随着中微公司产品凭借其优秀的产品质量与不可忽视的性价比优势打入国际主流晶圆厂供应链，并顺利投入量产，挤压了国际半导体设备企业的盈利空间，降低了他们对下游客户的议价能力，引起了国际同业的。

2007-2017年，10年间应用材料、泛林半导体、维易科以商业秘密侵权、专利纠纷等理由对中微或其子公司多次提起诉讼：2010年应材与中微达成和解；

2009年台湾地区泛林集团诉讼请求被驳回；

2017年中微公司胜诉泛林集团商业秘密侵权案件；

2018年中微、SGL与维易科达成和解。中微公司打赢国际维权三大战役彰显自主创新硬实力。

刻蚀设备与MOCVD设备市场均呈现高度垄断的竞争格局，中微公司是国内极少数可以与国际半导体设备制造商直接竞争的企业。

经过多年的耕耘，公司高端等离子刻蚀设备已经打入国际主流生产线供应链，公司MOCVD设备已经打破国外垄断。

刻蚀设备：中微公司开发出与美国设备公司具有同等质量和相当数量的等离子体刻蚀设备并实现量产，美国商务部在2015年宣布解除了对我国等离子体刻蚀设备多年的出口管制，彰显了中微公司在高端刻蚀机领域的产品实力。

MOCVD设备：2017年以前MOCVD设备主要由维易科、爱思强两家国际知名企业垄断，2018年下半年，中微公司MOCVD产品占据了全球新增氮化镓LED MOCVD设备市场的60%以上，占据市场领先地位，打破了国外垄断。

美国取消高端刻蚀机对华出口限制

背景：中微公司所生产的各向异性等离子体刻蚀机已经用在中芯国际的主流生产线中，并且已有足够的能力供应足够数量和同等质量的刻蚀机。在这个背景下继续对中国进行出口管制已达不到目的。

1.7 从启动期迈入成长期，经营渐行渐稳

营收规模逐步扩大，盈利能力显著增强。随着公司产品打入国际主流芯片制造商，客户拓展顺利叠加品牌影响力增强，公司收入端与利润端齐升。

2021年上半年公司实现营收13.39亿元，yoy 36.82%，增速平稳，2016-2020年营收CAGR为38.97%。

2020年上半年实现归母净利润3.97亿元，yoy 233.16%，增速亮眼，2017-2020年归母净利润CAGR为154.35%；

2021年上半年实现扣非归母净利润0.62亿元，yoy 53.36%，2018-2020年扣非归母净利润CAGR为80.03%。

公司盈利能力保持平稳，费用控制效果明显，持续加大研发投入，前期研发进入收获期。

2021年上半年公司实现销售毛利率42.34%，同比增长8.42pct，提升明显，主要系高毛利率的刻蚀设备营收占比提升，同时MOCVD设备毛利率提升明显，带动毛利率提升；

实现销售净利率29.62%，同比增长17.45pct，毛利率提升与当期政府补助较多等多重因素导致提升明显；

期间费用率30.88%，同比增长2.11pct，主要系股份支付费用与职工薪酬增长导致。

二、 公司半导体刻蚀机

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